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先進院科技PI鍍銅膜,PI鍍銅膜通常采用真空濺射技術進行鍍銅。在真空環境下,通過高速粒子轟擊銅靶材,使銅原子或分子濺射出來并沉積在PI薄膜表面,形成一層均勻致密的銅膜。這種方法能夠確保鍍層的均勻性和附著力,同時保持PI薄膜原有的優良性能。
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先進院科技PI鍍銅錫膜是一種用于SMD(SurfaceMountDevice)端子包覆的材料。SMD端子是一種廣泛應用于電子設備中的元件,其主要功能是用于電路連接。而PI鍍銅錫膜是一種特殊的保護膜,可以有效地保護SMD端子,提高其耐久性和穩定性。
產品特性
卓越的導電性:銅鍍層為PI薄膜提供了卓越的導電性能,使得PI鍍銅膜在電子電路中能夠作為導線、電極等關鍵部件使用,確保電流傳輸的效率和穩定性。
高耐熱性與耐候性:PI基材本身具有出色的耐熱性和耐候性,能夠在極端溫度、濕度和化學環境下保持穩定的性能。這一特性使得PI鍍銅膜在汽車電子、航空航天等高溫或惡劣環境應用中表現出色。
優異的機械性能:PI薄膜具有優異的柔韌性、抗拉強度和耐彎曲性,使得PI鍍銅膜在需要承受復雜力學應力的應用場景中表現出色,如柔性電子設備的制造。
良好的化學穩定性:PI鍍銅膜能夠抵抗多種化學物質的侵蝕,包括酸、堿、溶劑等,確保在多種工作環境下的穩定性和可靠性。
高精度與可加工性:通過先進的鍍銅工藝和精密的薄膜制造技術,PI鍍銅膜可以實現高精度的厚度和表面質量控制,同時具有良好的可加工性,便于后續的切割、沖壓、焊接等工藝處理。
生產工藝
PI基材準備:選擇優質PI薄膜,進行清洗、干燥等預處理,確?;谋砻娓蓛魺o雜質。
表面活化處理:采用物理或化學方法對PI基材表面進行活化處理,提高鍍銅層的附著力和均勻性。
鍍銅層沉積:利用真空濺射、電鍍或化學鍍等方法,在PI基材表面均勻沉積一層高純度銅膜。此步驟需準確控制鍍液成分、溫度、電流密度等參數,以確保鍍層質量。
鍍層后處理:對鍍銅后的PI膜進行清洗、干燥、平整等處理,去除殘留的化學試劑和水分,提高產品的外觀質量和性能穩定性。
車間展示
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